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日本Otsuka大塚SF-3分光干涉式晶圓膜厚儀
產品簡介:

日本Otsuka大塚SF-3分光干涉式晶圓膜厚儀-成都藤田科技提供
即時檢測

WAFER基板于研磨制程中的膜厚

玻璃基板(強酸環境中)于減薄制程中的厚度變化

產品型號:

更新時間:2025-02-21

廠商性質:代理商

訪問量:107

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產品介紹

日本Otsuka大塚SF-3分光干涉式晶圓膜厚儀-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚SF-3分光干涉式晶圓膜厚儀

產品特色

● 非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測
● 采用分光干涉法實現高度檢測再現性
● 可進行高速的即時研磨檢測
● 可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測
● 可對應長工作距離、且容易安裝于產線或者設備中
● 體積小、省空間、設備安裝簡易
● 可對應線上檢測的外部信號觸發需求
● 采用適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得)
● 可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)


規格式樣


SF-3

膜厚測量范圍

0.1 μm ~ 1600μm※1

膜厚精度

±0.1% 以下

重復精度

0.001% 以下

測量時間

10msec 以下

測量光源

半導體光源

測量口徑

φ27μm※2

WD

3 mm ~ 200 mm

測量時間

10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 小φ6μm

核心特點


  1. 微區測量能力:最小光斑直徑3μm,搭配自動XY平臺(200×200mm),實現晶圓、FPD(如OLED、ITO膜)等微小區域的精準厚度分布映射。


  2. 跨行業適用性:專為半導體(SiO?/SiN膜)、顯示面板(彩色光阻)、DLC涂層等行業設計,支持粗糙表面、傾斜結構及復雜光學異向性樣品的分析。


  3. 安全與擴展性:區域傳感器觸發防誤觸機制,獨立測量頭支持定制化嵌入,滿足在線檢測(inline)與實驗室研發需求。

日本Otsuka大塚SF-3分光干涉式晶圓膜厚儀-成都藤田科技提供



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